Значение слова фотолитография

фотолитографии, ж. (тип.). Литография, основанная на применении фотографии. См. (фото) в 1 знач.

ж. Литография, основанная на применении фотографии (1).

ФОТОЛИТОГРАФИЯ (от фото... и литография)

1. фотомеханический способ изготовления печатной формы плоской печати на камне или металлической пластине.

2. Оттиск с такой формы.

1. специальный фотография, процесс на фоторезистах , отличающийся высокой разрешающей способностью . Цель Ф. √ создать в слое фоторезиста «окна» заданной конфигурации для доступа травителя к расположенной под этим слоем полупроводниковой пластине с окисной плёнкой. Такие «окна» образуются при экспонировании фоторезиста в потоке ультрафиолетового излучения или в потоке электронов, в результате которого он теряет (негативный фоторезист) или приобретает (позитивный фоторезист) способность к растворению. Одним из многочисленных применений Ф. служит получение этим методом сотен тысяч мельчайших упорядоченно расположенных отверстий в масках цветных телевизоров. См. также Планарная технология .

2. Фотомеханический способ изготовления литографской печатной формы (см. Литография ), при котором изображение с негатива копируется на светочувствительный слой, покрывающий поверхность литографского камня (или металла). После проявления копии её подвергают химической обработке, в результате которой поверхность разделяется на печатающие и пробельные элементы. В настоящее время (2-я половина 20 в.) Ф. применяется чрезвычайно редко.

3. Оттиск с литографской печатной формы, изготовленной по способу Ф.

Фотолитогра́фия — метод получения определённого рисунка на поверхности материала, широко используемый в микроэлектронике и других видах микротехнологий . Один из основных приёмов планарной технологии , используемой в производстве полупроводниковых приборов .

Суть процесса фотолитографии сводится к тому, что вначале на обрабатываемую поверхность наносится тонкая фоточувствительная полимерная пленка ( фоторезист ). Затем эта пленка засвечивается через фотошаблон с заданным рисунком. Далее проэкспонированные участки удаляются в проявителе. Получившийся на фоторезисте рисунок используется для таких технологических этапов планарной технологии, как травление , электроосаждение , вакуумное напыление и другие. После проведения одного из этих процессов оставшийся, не удаленный при проявлении, фоторезист также удаляется.

Принципиальное отличие фотолитографии от других видов литографии заключается в том, что экспонирование производится светом (видимым или ультрафиолет овым), тогда как в других видах литографии для этого используется рентгеновское излучение ( рентгеновская литография ), поток электронов ( электронно-лучевая литография ) или ионов ( ионно-лучевая литография ) и другое.

Наименьшие размеры деталей рисунка, достижимые в фотолитографии , определяются: длиной волны используемого излучения, качеством применяемой при экспонировании оптики, свойствами фоторезиста и достигают 100 нм. Применение специальных методов ( иммерсионная литография ) теоретически позволяет получить .